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漢威AMB製円筒形セル集電板レーザー溶接機

ブランド名:	HanWei Laser
モデル番号:	hw-dh
Moq:	1
価格:	USD
支払条件:	T/T
供給能力:	年間600セット

詳細情報

製品説明

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起源の場所:

中国

証明:

パッケージの詳細:

紙の梱包または木製のケース

供給の能力:

年間600セット

ハイライト:

円筒形セル用アルミニウムレーザー溶接機

集電板レーザー溶接機

保証付き円筒形セルレーザー溶接機

製品説明

円筒形セルレーザー溶接機の集電板

円筒形セルの集電板レーザー溶接ソリューション

集電ディスク円筒形バッテリー（例：4680仕様）のコアタブバッテリーケーシング/キャップに接続する重要な導電部品です。同時に以下を満たす必要があります。低抵抗伝導：

コアタブからバッテリー端子への効率的な電流伝達を確保し、電気的損失を最小限に抑えます。構造的サポート：
組み立て中の変形に抵抗し、溶接ゾーンの平面性を維持します。熱管理：
溶接中にセパレーターへの熱伝達を減らし、焼損による短絡を防ぎます。電解液の浸透：
スルーホールまたはフローガイドチャネルを介して電解液の充填を加速し、電極の濡れ効率を高めます。円筒形集電体レーザー溶接技術の原理、特性、および利点

基本原理

円筒形バッテリー集電体（例：4680セル）のレーザー溶接は、

高エネルギーレーザービームを使用して、集電ディスクと電極タブ（フォイル）を溶融および融合させます。コアプロセスには以下が含まれます。振動溶接パス：

レーザービームは、溶接面積を増やし、熱集中を減らすために、120〜300 Hzで横方向に振動しながら、プリセットパスに沿って移動します。動的電力補償：
レーザー出力は、中心パスからの距離に基づいてリアルタイムで調整され、振動の極端値では最大45％減少します。シールドガス保護：
不活性ガスは、接線方向の入口を介して溶接ゾーンの周りに渦バリアを形成し、酸化とスパッタを防ぎます。主な技術的特徴

熱管理

熱影響部（HAZ）の削減：

短波長レーザーは熱拡散を最小限に抑えます。銅コレクターの場合、シングルモードリングビームレーザーは65％の吸収を達成し、電力要件を84％削減します。絶縁層：

一部の設計では、コレクターの下に熱伝導性シリコーンを組み込み、熱を放散し、セパレーターを分離します。高速溶接

タレットフライング溶接：

ガルバノメーターを備えた回転タレットにより、±0.05mmの精度で>300mm/sの速度での動的溶接が可能になります。マルチトラック処理：
振動パターンは溶接シーム密度を高め、コレクターあたりの総溶接時間を1.02秒に短縮します。ビーム制御の革新

シングルモードリングビーム：

深部浸透と表面処理のために、独立して調整可能なコア/リングビームを備えています。電力速度同期：
アルゴリズムは、レーザー出力を速度変動と同期させ、コーナーでのボイドを排除します。構造最適化

ルーバーコレクター設計：

スルーホールにより、電極タブが通過できるようになり、レーザーの浸透深さを60％削減します。補強リブ：
ラジアルまたは円形のリブは、ケーシング挿入中の変形に抵抗し、溶接ゾーンの平坦性を維持します。

タグ:

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